Les fuites font partie intégrante de la communauté technologique. Et ce n'est même pas une question de savoir si la communauté prospérera sans son énergie ou non. Mais les marques, en particulier, le détestent pour une raison évidente. Et c'est pourquoi Samsung a maintenant corrigé la faille qui nous a permis d'avoir les premières fuites d'une interface utilisateur.

Plus de fuites d'interface utilisateur de Samsung

Le développement de logiciels implique plusieurs phases et tests avant la version stable. L'une des premières constructions est appelée «bêta fermée» et n'est accessible qu'aux développeurs ou à quelques utilisateurs sélectionnés. Le logiciel subit ensuite plusieurs séries de tests, y compris les tests bêta ouverts, avant le déploiement final.

La même chose se produit également avec Samsung's One UI. Cependant, il y avait une échappatoire dans les tests bêta fermés. Et à cause de cela, n'importe qui pourrait localiser et télécharger le fichier logiciel. Et c'était la raison pour laquelle nous avons eu de nombreuses fuites couvrant la construction précoce d'une UI 8. Mais dans le dernier développement, le géant de la technologie a résolu le problème.

Samsung s'adresse à la faille bêta fermée

Samsung utilise un serveur particulier pour envoyer les mises à jour bêta fermées aux utilisateurs des téléphones Galaxy, des montres, des pliables et d'autres gadgets. Cependant, il y avait une faille dans le serveur qui permettrait à tout outsider d'accéder au fichier logiciel et même de le télécharger. Mais selon le rapport de Samobilela société a abordé le problème et a donc fermé les portes pour les fuites à venir d'une seule interface utilisateur.

Maintenant, puisque l'échappatoire est adressée, nous ne pouvons pas obtenir de fuites pour la prochaine version d'une interface utilisateur, qui pourrait être une interface utilisateur 8.5. Mais les fuites ne passent pas toujours par une seule porte. Il vaudrait la peine de voir si nous obtenons ou non les nouvelles fuites sur l'interface utilisateur à l'avenir.

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